经过不断改良和工艺设备发展，亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密蚀刻产品的加工，---在半导体制程上，蚀刻更是不可或缺的技术。
蚀刻：一种将材料使用bai化学反应或物理撞击作用而du移除的技术。通常所指蚀刻也称光化学蚀刻，指通过---制版、显---，将要蚀刻区域的保护膜去除，在蚀刻时接触化学溶液，达到溶解腐蚀的作用，形成凹凸或者镂空成型的效果。
若---过度，弧度面---显影报价，会造成显影困难，也会在电镀过程中产生起翘剥离，形成渗镀。所以，解决的工艺措施就是严格控制---时间，每种类型的干膜在起用时应按工艺要求进行测量。如采用瑞士顿21级光楔表，级差0.15，以控制6-9级为宜。---时间过长。当---过度时，紫外光透过照相底片上透明部分并产生折射、衍射现象，弧度面---显影，照射到照相底片不透明部分下的干膜处，使本来不应该发生光聚合反应的该部分干膜，被部分---后发生聚合反应，显影时就会产生余胶和线条过细的现象。因此，适当的控制---时间是控制显影效果的重要条件。
1首先排除你爆光时bai间过长，水性3分钟是差du不多的.
2在自然干的时zhi候.，是否被爆光.，弧度面---显影服务，在暗间里吹dao干.
3网版是多少目的，是不是网版目数太密了.
4水性胶一般都较难冲，所以要放心水里泡一两分钟，.然后用高压水枪打.没条件的也要用有压力的水龙头冲/
5你用的是菲林片和网版在爆光时有没有压紧.，
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