负胶：---区域发生交联，难溶于显影液。特性：---的粘附能力、---的阻挡作用、感---度快；显影时发生变形和膨胀，所以只能用于2μm的分辨率。
正胶：正性光刻胶的---区域容易溶解于显影液。特性：分辨率高、台阶覆盖好、对比度好；粘附性差、抗刻蚀能力差、高成本。
目---般都是用正胶，对于线宽要求不高的时候或者一些特殊的用途（比如pss等）可以选择负胶
导致的原因较多，---显影价格，通常考虑uv光是否正常，即---机是否工作正常。
预烘烤时间过长也会导致显影不净。
蚀刻液有问题或浓度较低等等都会导致时刻不净。
总之就是从两方面考虑：油墨有问题，---显影，显影液正常；油墨没问题显影液异常；或者两者都异常。
板子过显影线的线速（即显影时间）通常会影响，线速过快就会显影不净。
蚀刻：蚀刻(etching)是将材料使用bai化学反应或物理du撞击作用而移除的技术。蚀刻的原理zhi是氧化还原反应中的置换dao反应：2agno3+cu=cu(no3)*2+2ag。利用蚀刻液与铜层反应，---显影设计，蚀去线路板上不需要的铜，得到所要求的线路。蚀刻技术可以分为湿蚀刻(wet etching)和干蚀刻(dry etching)两类。
显影：显影是在印刷、影印、复印、晒图等行业中，让影像显现的一个过程。通过碱液作用，将未发生光聚合反应之感光材料部分冲掉。显影包括正显影和反转显影。
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