光刻工艺的显影方法， 光刻工艺的显影方法，手机壳logo---显影服务，包括：提供半导体晶片，在所述半导体晶片上具有光敏材料层；向所述光敏材料层喷洒显影液，使显影液布满整个光敏材料层表面；其特征在于，进一步包括：停止喷洒去离子水，手机壳logo---显影厂，并继续旋转所述半导体晶片；停止旋转所述半导体晶片。光刻工艺的显影方法，其特征在于：在向 所述光敏材料层喷洒去离子水之前，以小于100rpm的速率旋转所 述半导体晶片，甩掉部分或全部溶解有光敏材料的显影液和多余的显影 液手机壳logo---显影
---的作用是将客户的图形资料以正片或负片的形式转移到pcb上，同时将乾膜在高能量下聚合.显影的作用是将未聚合的乾膜去除.
---显影这可以长期保护pcb;另外它也具有其它表面处理工艺所不具备的对环境的忍耐性。此外沉金也可以阻止铜的溶解，这将有益于无铅组装。
通过使用碱液(na2co3)，将没有通过---固化的感光膜或者油墨清洗掉，需要的覆盖的铜箔或者线路将会被固化的感光膜或者油墨所覆盖。显影包括正显影和反转显影。正显影中显影---所带电荷的极性，与感光膜表面静电潜像的电荷极性是相反的，反转显影中感光鼓与---电荷极性是相同的。一般阻焊油墨为正显影。
耐高温白色---显影油墨在玻璃表面装饰中的应用，其特 征在于:使用时按a组分:b组分:稀释剂=100:15-20:150?300之比例充分混合后，粘度为 8-10秒，350目过滤后用0.8-1.〇111111口径的喷，手机壳logo---显影，0.310^?0.410^的压力喷涂，膜厚7-1(^111， 70-80°c预烤10分钟，以500?1200mj/cm2，6?10级的能量进行紫外光---，冷却后用1%的 碳酸钠溶液喷淋30-90秒即可显影，清洗后150°c烘烤30分钟即可，可根据需求喷涂多层。手机壳logo---显影
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