录像机---显影厂商-利成感光-清新录像机---显影

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    2023-3-2

张应叙
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显影检验良品率和重新工艺处理率随掩膜水平而变。总体上,在掩膜次序中有较宽的特征图形尺寸、较平的表面和较低的密度,所有这些会使掩膜良品率更高。首先,一部分晶圆会从上一步留下来问题而要停止工艺处理。这些晶圆在显影检验时会被---接受并进行处理。检验的目的是区分那些有很低可能性通过终掩膜检验的晶圆;提供工艺性能和工艺控制数据;及分拣出需要重做的晶圆。


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