---：经光源作用将原始底片上的图像转移到感光底板（即pcb）上。
蚀刻---就是通过---制版、显---，将要蚀刻区域的保护膜去除，喷砂---显影，在蚀刻时接触化学溶液，达到溶解腐蚀的作用，形成凹凸或者镂空成型的效果。
不同的物质通过对不同波长紫外光的吸收，分子会发生能级跃迁，从基态跃迁至激发态，改变物质化学性能。---显影工艺就是指利用物质这一特点，
底片尺寸的稳定性随环境的温度和贮存时间而变化。所以，底片的生产、贮存和使用采用恒温的环境，喷砂---显影抛光，采用厚底片也能提高照相底片的尺寸稳定性。
除此以外，---机的真空系统和真空---框架材料的选择，也影响---成像的。
定位方法是：首先将正、便能得到同时钻出元件孔和定位孔的数据带或数据盘，---钻出元件孔及定位孔，喷砂---显影加工厂，在孔金属化后预镀铜，便可用双圆孔---定位---。---时间，s。
从上式可以看出，------量e随光强度j和---时间t而变化。当---时间丁一定，光强度改变，------量也随之改变。所以尽管严格控制了---时间，但实际上干膜在每次---时所获得的------量并不一定相同，因而聚合程度也就不同。
感光(---)完成后就要进行下一步工作——显影。显影的目的是通过显影将未---的地方冲走，经过---的地方固化，这样就能确定需要被腐蚀和不被腐蚀的图案。以便后续蚀刻加工的精度。
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