---显影工艺主要应用于微电子加工中，是一种将芯片图案传递到硅片上的技术。
---显影工艺可以分为以下步骤：准备硅片：在硅片上涂覆光刻胶，将硅片和光刻胶一起加热，使其在表面形成均匀的光刻胶层。照射：使用紫外线辐射光源将芯片图案(或感光掩膜中的图案）通过掩膜传递到光刻胶层上。
只有对公差配合完全掌握，才能简单---的做出合格品。目前加工行业在致力打造喷涂---显影---，电视机外壳---显影加工，这种表面装饰工艺可以克服贴合的一些不足，具备一定的优势，目前蓝思、伯恩的---显影加工工艺相对比较成熟。---不足，导致单体聚合不，那么在显影过程中，会使的胶膜变软，线条不清晰，色泽暗淡，脱胶。---过度，会造成难显影，留有残胶。同时---影响图案的线宽，过量---会使图形线条变细，尽管对193i负胶的研发已经倾注了很大的努力，但是其性能仍然与正胶有比较大的差距，所以提出负显影（negative tone develop，常平电视机外壳---显影加工，ntd）。用负显影工艺可以实现较窄的沟槽，电视机外壳---显影加工多少钱，负显影工艺已经被广泛用于20纳米及以下技术节点的量产中
显影：将---后的硅片浸泡在显影液中，在此过程中，光刻胶会在掩膜中没有被---的部分（即需要去除的图案区域）中被消蚀，并暴露出硅片表面。---一般在---机内进行，目前的---机依据光源冷却方式可分为风冷和水冷，电视机外壳---显影加工供应商，---取决于除干膜致抗蚀剂、光源选择、---时间、菲林胶片等因素。尽管对193i负胶的研发已经倾注了很大的努力，但是其性能仍然与正胶有比较大的差距，所以提出负显影（negative tone develop，ntd）。
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