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在传统的胶片摄影中，---是通过光线交互感光材料来记录影像的过程，而显影是通过在显影剂溶液中，通过还原和氧化反应，使得感光材料上的显影晶粒排列形成的银像得以显影出来，录像机壳---显影制造商，显影液表面停留（puddle）：为了让显影液与光刻胶进行充分反应，显影液喷淋后需要在硅片表面停留一般为几十秒到一两分钟。---显影是一种摄影技术，其过程包括两个步骤：---和显影。在---过程中，录像机壳---显影工厂，光线照射到感光材料上，使材料中的纹理或颜色发生变化。



显影：使用显影液将未---的光刻胶清除掉，将芯片图案暴露出来。刻蚀：使用化学反应或物理方法将芯片表面的材料刻蚀掉，形成所需的电子器件结构。清洗：将芯片在化学清洗液中清洗干净，录像机壳---显影，并使用干燥器进行干燥。显影液去除并且清洗（rinse）：达到显影时间后，使用diw立即冲洗晶圆表面。去离子水不仅可以使显影过程终止，录像机壳---显影电话，而且会把显---缺陷颗粒冲洗掉。



用负显影工艺可以实现较窄的沟槽，负显影工艺已经被广泛用于20纳米及以下技术节点的量产中显影工艺一般步骤如下：图2 显影工艺步骤1.预喷淋（pre-wet）：为了提高后面显影液在硅片表面的附着性能，显影液表面停留（puddle）：为了让显影液与光刻胶进行充分反应，显影液喷淋后需要在硅片表面停留一般为几十秒到一两分钟。



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