亮面标牌---显影定制-亮面标牌---显影-利成感光

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加工方法主要应用于芯片制造过程中的多个步骤中，亮面标牌---显影厂，如制造晶体管、金属线、电容、电阻等元件。通过它可以在芯片上制造出不同的图案，亮面标牌---显影，从而实现各种电子器件的功能。---显影加工是半导体工业中非常重要的一部分。

---一般在---机内进行，目前的---机依据光源冷却方式可分为风冷和水冷，---取决于除干膜致抗蚀剂、光源选择、---时间、菲林胶片等因素。

用负显影工艺可以实现较窄的沟槽，负显影工艺已经被广泛用于20纳米及以下技术节点的量产中显影工艺一般步骤如下：图2 显影工艺步骤1.预喷淋（pre-wet）：为了提高后面显影液在硅片表面的附着性能，显影液表面停留（puddle）：为了让显影液与光刻胶进行充分反应，显影液喷淋后需要在硅片表面停留一般为几十秒到一两分钟。



显影液表面停留（puddle）：为了让显影液与光刻胶进行充分反应，显影液喷淋后需要在硅片表面停留一般为几十秒到一两分钟。前工站加工的玻璃进入显影设备，亮面标牌---显影定制，对需要去除的油墨进行化学反应，亮面标牌---显影工厂，进行剥离，然后进行表面清洗，形成---的油墨3d盖板。显影操作需控制好显影液的温度、传送速度、喷淋压力等参数。甩干（spin dry）：为了将表面的去离子水甩干，将硅片转到高转速



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