---一般在---机内进行，目前的---机依据光源冷却方式可分为风冷和水冷，---取决于除干膜致抗蚀剂、光源选择、---时间、同时---影响图案的线宽，过量---会使图形线条变细，蚀刻产品线条变粗。所以好的办法是依据显影的干膜光亮程度，图像清晰度，图案线条与底片相符，---设备参数和感光性能，确定适合的---时间。
---显影工艺在微电子加工中具有重要作用，主要用于将芯片图案转移至硅片表面，从而实现微电子器件的制造。
在实际应用中，---显影工艺通常用于以下方面：制造微处理器：---显影工艺是制造微处理器的主要工艺之一，通过在芯片表面制造出各种不同的电路和器件，实现芯片的功能。
---不足，导致单体聚合不，那么在显影过程中，会使的胶膜变软，线条不清晰，色泽暗淡，手机套---显影加工生产，脱胶。
---显影可以制造微小的电容、电阻、晶体管、发光二极管或太阳能电池等晶体管器件，快速将电信号转变为其他形式的能量。---显影技术可以制造出---微纳米级别下的芯片制造工艺，---提高了芯片及其---性。预喷淋（pre-wet）：为了提高后面显影液在硅片表面的附着性能，先在硅片表面喷上一点去离子水（deionizedwater，diw）。
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