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光刻工艺可用五个指标来衡量其效果:分辨率、灵敏度、套刻对准精度、缺陷率和硅片加工过程处理问题,其中有3个指标,分辨率、灵敏度和缺陷率是与涂胶显影的工艺精度有重要联系。
显影过程是将---后的光刻胶中与紫外光发生化学反应的部分除去或保留下来的过程。显影的主要过程如下:
对准---一---后烘一显影一坚膜一显影检测。
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喷砂是采用压缩空气为动力,以形成高速喷射束将喷料(铜矿砂、石英砂、金刚砂、铁砂、海砂)高速喷射到被需处理工件表面,使工件表面的外表面的外表或形状发生变化,由于磨料对工件表面的冲击和切削作用,使工件的表面获的一定的清洁度和不同的粗糙度,使工件表面的机械性能得到---,因此提高了工件的扛疲劳性,录像机壳---显影加工厂,增加了它和涂层之间的附着力,延长了涂膜的耐久性,也有利于涂料的流平和装饰。
---显影
1、蚀刻技术可以分为湿蚀刻和干蚀刻两类。
早可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版,录像机壳---显影加工价钱,也广泛地被使用于减轻重量仪器镶板,铭牌及传统加工法难以加工之薄形工件等的加工;经过不断改良和工艺设备发展,亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密蚀刻产品的加工,---在半导体制程上,蚀刻更是不可或缺的技术。
2、---就是光圈、快门和感光度iso的组合。
其中光圈和速度联合决定进光量,常平录像机壳---显影加工,iso决定isoccd/cmos的感---度。
3、显影包括正显影和反转显影。
正显影中显影---所带电荷的极性,与感光鼓表面静电潜像的电荷极性是相反的,反转显影中感光鼓与---电荷极性是相同的。
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