---一般在---机内进行，目前的---机依据光源冷却方式可分为风冷和水冷，---取决于除干膜致抗蚀剂、光源选择、---时间、菲林胶片等因素。显影液去除并且清洗（rinse）：达到显影时间后，使用diw立即冲洗晶圆表面。去离子水不仅可以使显影过程终止，而且会把显---缺陷颗粒冲洗掉。在冲洗过程中，晶圆旋转产生的离心力也对去除表面颗粒有很大的帮助。
显影工艺是怎样？
前工站加工的玻璃进入显影设备，对需要去除的油墨进行化学反应，进行剥离，然后进行表面清洗，形成---的油墨3d盖板。显影操作需控制好显影液的温度、传送速度、喷淋压力等参数。
---一般在---机内进行，目前的---机依据光源冷却方式可分为风冷和水冷，保温杯---显影厂，---取决于除干膜致抗蚀剂、光源选择、---时间、菲林胶片等因素。显影液表面停留（puddle）：为了让显影液与光刻胶进行充分反应，显影液喷淋后需要在硅片表面停留一般为几十秒到一两分钟。前工站加工的玻璃进入显影设备，对需要去除的油墨进行化学反应，保温杯---显影订制，进行剥离，保温杯---显影，然后进行表面清洗，形成---的油墨3d盖板。显影操作需控制好显影液的温度、传送速度、喷淋压力等参数。甩干（spin dry）：为了将表面的去离子水甩干，将硅片转到高转速
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