将显影液涂覆在---后的晶圆表面上，喷砂---显影工厂，正胶的---区域和负胶的非---区域溶于显影液中，进一步将反应聚合物和显影液残留冲洗后，就可以显现出光刻胶中的图形，---一般在---机内进行，目前的---机依据光源冷却方式可分为风冷和水冷，喷砂---显影生产厂商，---取决于除干膜致抗蚀剂、光源选择、---时间、菲林胶片等因素。综上可推出3d玻璃---显影技术是pet贴膜工艺的一种补充，目前应用范围局限于机型，后续技术的突破另当别论。
显影喷淋（developer dispense）：在硅片表面涂覆显影液。为了将显影液均匀地涂覆到硅片表面上，显影喷嘴分为以下几种：e2喷嘴，ld喷嘴，gp喷嘴，mgp喷嘴等。显影液去除并且清洗（rinse）：---：使用紫外线---机将掩膜上的图案投射到光刻胶上。显影：使用显影液将未---的光刻胶清除掉，将芯片图案暴露出来。刻蚀：使用化学反应或物理方法将芯片表面的材料刻蚀掉，喷砂---显影，形成所需的电子器件结构。清洗：将芯片在化学清洗液中清洗干净，并使用干燥器进行干燥。
3d玻璃遮蔽可以移印，贴合，曲面角度小还是可以做贴合工艺；还有就是---显影；比如vivo x21，是中间贴膜，四周用喷墨---显影补线方式。将需要的图形根据油墨的感光特性制成掩膜板（光罩/mask)，掩膜板与喷墨后的玻璃紧---触，喷砂---显影定做，通过---技术，使图形转印到玻璃之上，完成原有印刷之功能。蚀刻加工中---显影是蚀刻工序前的一步重要的工序，---是将需要蚀刻的图案通过光绘转移到两张一样的菲林胶片上，然后通过机器定位或者人工定位的方式去将菲林对准，再将涂布感光油墨的蚀刻片置于菲林中间，固定后进行---。
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