显影喷淋（developer dispense）：在硅片表面涂覆显影液。为了将显影液均匀地涂覆到硅片表面上，显影喷嘴分为以下几种：e2喷嘴，ld喷嘴，gp喷嘴，钢材202---显影厂商，mgp喷嘴等。显影液去除并且清洗（rinse）：---：使用紫外线---机将掩膜上的图案投射到光刻胶上。显影：使用显影液将未---的光刻胶清除掉，将芯片图案暴露出来。刻蚀：使用化学反应或物理方法将芯片表面的材料刻蚀掉，形成所需的电子器件结构。清洗：将芯片在化学清洗液中清洗干净，并使用干燥器进行干燥。
用负显影工艺可以实现较窄的沟槽，钢材202---显影，负显影工艺已经被广泛用于20纳米及以下技术节点的量产中 [1] 。显影液表面停留（puddle）：为了让显影液与光刻胶进行充分反应，用负显影工艺可以实现较窄的沟槽，负显影工艺已经被广泛用于20纳米及以下技术节点的量产中 [1] 。所以的办法是依据显影的干膜光亮程度，图像清晰度，钢材202---显影多少钱，图案线条与底片相符，---设备参数和感光性能，确定适合的---时间。
---显影可以帮助制造微米或毫米尺寸的芯片结构，钢材202---显影加工公司，实现芯片的复杂功能。---显影技术可以制造出复杂的三维芯片结构，让芯片具有更高的性能和功能。---显影可以在芯片上制造微细的线路，从而实现快速和---的信号传输。显影液表面停留（puddle）：为了让显影液与光刻胶进行充分反应，显影液喷淋后需要在硅片表面停留一般为几十秒到一两分钟。
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